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半導體清洗設備
半導體清洗設備核心臭氧放電裝置
別名/ alias

清潔臭氧發生器、臭氧超純水發生器、高濃度臭氧發生器、臭氧水高效清洗設備;卓康牌臭氧發生器采用平板式放電模組,通過微間隙放電將氧氣轉化為臭氧。放電單元由高純度陶瓷組成,放電過程中無金屬離子析出。臭氧濃度超過320g / ?(N),在市場上處于較高水平。它已被許多客戶在半導體,FDP和其他電子器件材料制造工藝的干法和濕法工藝中高度重視。

全系列型號/ Full range models

我司核心放電裝置可按照客戶要求進行多種組合,實現不同的臭氧氣體濃度。





臭氧清洗濃度要求/ Ozone cleaning concentration requirements

臭氧清洗可應用于多種行業,不同行業有不同的濃度需求,在光伏行業主要有如下應用:

目前主要應用于制絨工序中替代雙氧水、制絨后清洗、鍍膜前清洗、替代RCA 清洗、BOE 清洗、黑硅表面清洗、高質量氧化膜生長等;


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